京东方请求一种显现基板及显现装置专利减轻电化学腐蚀的发生防止发生孔黑斑

发布时间: 2025-01-20 17:43:58 人气：1 来源：机加工件

  金融界2024年12月13日音讯，国家知识产权局信息数据显现，京东方科技集团股份有限公司、重庆京东方显现技能有限公司请求一项名为“一种显现基板及显现装置”的专利，公开号 CN 119110615 A，请求日期为 2024 年 8 月。

  专利摘要显现，本请求施行例供给了一种显现基板及显现装置，反面金属层设置在阻隔区，且坐落阻隔柱与衬底之间，将反面金属层与正极电源相连之后，能够使得反面金属层带正电，由于阻隔区是围绕开孔区设置的，使得阻隔区构成正电场，在正电场的效果下，阻隔柱也带正电，从而对在产品做信任性测验时，会对POL中的K+离子排挤，显现基板在上电过程中，能够轻松又有用的减轻电化学腐蚀的发生，防止发生孔黑斑。